濺射源及真空腔體-中美合資合肥科晶材料技術(shù)有限公司

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薄膜制備全套設(shè)備

3靶等離子濺射儀火焰輔助噴霧熱分解涂覆設(shè)備超聲波霧化模塊多功能試樣表面處理機(jī) 小型蒸鍍儀高真空蒸發(fā)鍍膜儀小型磁控射頻濺射鍍膜儀射頻等離子磁控濺射鍍膜儀直流等離子磁控濺射鍍膜儀雙靶磁控濺射儀提拉涂膜設(shè)備旋轉(zhuǎn)涂層設(shè)備（勻膠機(jī)）流延涂覆機(jī) 磁控濺射鍍膜設(shè)備蒸發(fā)鍍膜設(shè)備等離子鍍膜設(shè)備熱噴涂鍍膜設(shè)備/靜電紡絲鍍膜設(shè)備濺射源及真空腔體查看全部產(chǎn)品

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2英寸高真空磁控濺射頭--HVMSS-SPC-2-LD

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更新日期：2025-02-10

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500W直流濺射電源--DC-500-LD

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1英寸高真空磁控濺射頭--HVMSS-SPC-1-LD

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高真空腔體--HVC-SS

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RF-100-LD是一款小型手動匹配100WRF（射頻）電源，頻率為13.56MHz.此設(shè)備設(shè)計(jì)專門與本公司的1英寸的磁控濺射頭配用，可搭建起一套比較廉價(jià)的濺射鍍膜系統(tǒng)，用于制作非導(dǎo)電薄膜。

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