雙靶磁控濺射儀

簡要描述：雙靶磁控濺射儀是一款帶有兩個(gè)靶頭的磁控濺射鍍膜儀，其中一個(gè)靶頭采用直流（DC）濺射，可濺射金屬靶材制備金屬膜，另一個(gè)采用射頻（RF）濺射，可濺射金屬和氧化物靶材，制備金屬或氧化物膜.設(shè)備上安裝有薄膜測厚儀可以實(shí)時(shí)監(jiān)測薄膜的厚度。此設(shè)備可制作各種單層或多層薄膜，如鐵電、導(dǎo)電，合金，半導(dǎo)體，陶瓷，介電，光學(xué)，氧化物和PTFE薄膜等。而且設(shè)備體積較小操作方便，是一套理想的實(shí)驗(yàn)工具。

產(chǎn)品型號：VTC-600-2HD
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
更新時(shí)間：2024-10-22
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薄膜制備全套設(shè)備

3靶等離子濺射儀火焰輔助噴霧熱分解涂覆設(shè)備超聲波霧化模塊多功能試樣表面處理機(jī) 小型蒸鍍儀高真空蒸發(fā)鍍膜儀小型磁控射頻濺射鍍膜儀射頻等離子磁控濺射鍍膜儀直流等離子磁控濺射鍍膜儀雙靶磁控濺射儀提拉涂膜設(shè)備旋轉(zhuǎn)涂層設(shè)備（勻膠機(jī)）流延涂覆機(jī) 蒸發(fā)鍍膜設(shè)備磁控濺射鍍膜設(shè)備等離子鍍膜設(shè)備熱噴涂鍍膜設(shè)備/靜電紡絲鍍膜設(shè)備濺射源及真空腔體查看全部產(chǎn)品

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詳細(xì)介紹

儀技術(shù)參數(shù)

結(jié)構(gòu)	（點(diǎn)擊圖片查看詳細(xì)資料）
輸入電源	220VAC 50/60Hz, 單相 2000W (包括泵)
濺射電源	安裝有兩個(gè)濺射電源直流（DC）電源：500W，針對于制作金屬膜射頻（RF）電源：600W，可制作氧化物和金屬膜同時(shí)可選配300W的射頻電源
磁控濺射頭	儀器中安裝有2個(gè)磁控濺射頭，而且都帶有水冷夾層，可通入冷卻水對靶材降溫其中一個(gè)濺射頭與射頻電源相連接，主要是濺射絕緣性靶材另一個(gè)濺射頭與直流電源相連接，主要濺射導(dǎo)電性靶材靶材尺寸要求：金屬靶：直徑為50mm,zui大厚度1.5mm 陶瓷靶：直徑為50mm,zui大厚度6mm 儀器中標(biāo)配一個(gè)不銹鋼靶和氧化鋁陶瓷靶濺射頭所需冷卻水：流速10ml/min（儀器中配有一臺流速為16ml/min的循環(huán)水冷機(jī)）也可以根據(jù)自己的要求選擇2個(gè)射頻濺射頭或3個(gè)射頻濺射頭，訂購前需于本公司銷售人員
真空腔體	真空腔體：300 mm Dia x 300 mm h，采用不銹鋼制作觀察窗口： 100 mm diameter 腔體打開方式采用上頂開，使得換靶更加容易
載樣臺	載樣臺尺寸：140mm dia.（zui大可放置4"的基底）載樣臺可以旋轉(zhuǎn)，其速度為：1 - 20 rpm （可調(diào)）載樣臺zui高可加熱溫度為500℃，控溫精度為+/- 1.0 °C
氣體流量控制器	儀器內(nèi)部安裝有2個(gè)質(zhì)量流量計(jì) 量程為：0-200sccm 氣體流量設(shè)置可以在6英寸的觸摸屏上進(jìn)行操作
真空泵系統(tǒng)	配有一套分子泵系統(tǒng)（德國制作），采用一鍵式操作
薄膜測厚儀	一個(gè)精密的石英振動薄膜測厚儀安裝在儀器上，可實(shí)時(shí)監(jiān)測薄膜的厚度，分辨率為0.10 Å LED顯示屏顯示，同時(shí)也輸入所制作薄膜的相關(guān)數(shù)據(jù)
外形尺寸	L1300mm× W660mm× H1200mm
重量	160 kg
質(zhì)保期	一年質(zhì)保期，終生維護(hù)