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小型真空管式爐外型美觀大方，結(jié)構(gòu)為保溫層兩半開啟式,集控制系統(tǒng)與爐膛為一體。它是專為高等院校﹑科研院所的實驗室及工礦企業(yè)在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下對金屬，非金屬及其它化合物進行燒結(jié)﹑熔化﹑分析而研制的理想設(shè)備。小型真空管式爐的安裝步驟1、先將外壓環(huán)從石英管端裝入，再將硅橡膠O型圈套入，再將內(nèi)壓環(huán)套入，接著將第二個硅橡膠O型圈套入；撥動兩硅橡膠圈到合適位置，再將另外一個外壓環(huán)套上。(注意：此時應(yīng)調(diào)整兩硅橡膠O型圈及內(nèi)壓環(huán)的位置，使石英管端不要抵在外壓環(huán)端面，應(yīng)預(yù)留2mm間隙)。...

立式小型真空管式爐均系采用先進技術(shù)，自行研制開發(fā)的高性能高節(jié)能的新型電爐，有單管、雙管、臥式、可開啟式、立式、單溫區(qū)、雙溫區(qū)、三溫區(qū)等多種管式爐型。主要應(yīng)用于大專院校、科研院所、工礦企業(yè)等實驗和小批量生產(chǎn)之用。具有安全可靠、操作簡單、控溫精度高、保溫效果好、溫度范圍大、爐膛溫度均勻性高、溫區(qū)多、可選配氣氛、抽真空爐型等。立式小型真空管式爐各獨立的加熱區(qū)均配備有熱電偶、數(shù)顯式智能調(diào)節(jié)器（PID）和可控硅組成的閉環(huán)控制系統(tǒng)，可實現(xiàn)自動控溫，操作起來也很方便。針對實驗的使用要求，裝...

小型真空管式爐均系周期作業(yè)式。供實驗室、工礦企業(yè)、科研單位作元素分析測定和一般小型鋼件的淬火、退火、回火和電子陶瓷等新材料的加熱用。采用先進技術(shù)研制開發(fā)的高性能高節(jié)能的新型電爐，有單管、雙管、臥式、可開啟式、立式、單溫區(qū)、雙溫區(qū)、三溫區(qū)等多種管式爐型。具有安全可靠、操作簡單、控溫精度高、保溫效果好、溫度范圍大、爐膛溫度均勻性高、溫區(qū)多、可選配氣氛、抽真空爐型等。真空管式爐優(yōu)點之多，缺點也有，不過相對于其優(yōu)點繁多，缺點似乎沒那么重要了。小型真空管式爐優(yōu)點：1.工藝成熟;2.爐型...

3.4升1400℃箱式爐采用新型保溫材料。體積小、重量輕、保溫效果好、升溫速度快。適用于電力、煤炭、造紙、石化、水泥、農(nóng)牧、醫(yī)藥科研、教學(xué)等行業(yè)和部門，操作簡單、維修方便。3.4升1400℃箱式爐的安全操作1、清除爐內(nèi)鐵屑，清掃爐底板，以免鐵屑落于電阻絲上造成短路損壞。2、根據(jù)工件的圖紙要求，確定合理的工藝范圍。按時升溫，保證出爐操作，經(jīng)常檢查儀表溫度并進行校準，防止誤操作。3、為保證爐溫，不能隨便打開箱式爐爐門，檢查爐內(nèi)情況應(yīng)從爐門孔中觀察。2、入箱式爐的工件應(yīng)不超過爐底板...

1200℃開啟式管式爐以新型鐵鉻鋁高溫電阻絲或硅鉬棒為發(fā)熱元件，測溫元件采用K分度熱電偶，控溫方式有自動恒溫和程序控溫兩種。采用雙層風(fēng)冷結(jié)構(gòu)，爐體表面溫度≤60℃，爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。內(nèi)爐膛表面涂有美國進口的1750度高溫氧化鋁涂層可以提高反射率及設(shè)備的加熱效率，同時也可以延長儀器的使用壽命。1200℃開啟式管式爐采用新型隔熱保溫材料，具有測溫精度高、控溫準確、熱導(dǎo)率低、節(jié)能、美觀大方等特點，供實驗室、工礦企業(yè)、科研院所等單位用于金屬、非金屬、合金、...

真空管式爐均系周期作業(yè)式。供實驗室、工礦企業(yè)、科研單位作元素分析測定和一般小型鋼件的淬火、退火、回火和電子陶瓷等新材料的加熱用。由于真空管式爐廣泛用于耐火材料、電子、陶瓷、冶金、機器、建材、特種材料、新材料開發(fā)等領(lǐng)域的試驗和生產(chǎn)中，避免不了產(chǎn)生爐管結(jié)碳渣或者結(jié)焦等情況，面對此問題窯爐生產(chǎn)廠家通常的清洗方法有物理清洗法和化學(xué)清洗法2種。物理清洗采用機械力將管道內(nèi)積存的碳渣擊碎，再用高速氣流將碎渣吹出，使管道暢通。化學(xué)清洗是通過化學(xué)反應(yīng)破壞碳渣的結(jié)構(gòu)或者與碳渣發(fā)生反應(yīng)，達到清渣的...

高真空蒸發(fā)鍍膜儀，特別適合蒸鍍一些對氧較敏感的金屬膜，如Ti,Al和Au等，也可蒸鍍各種氧化物材料。此款蒸鍍儀安裝有4個蒸鍍加熱頭.對于實驗研究，這是一款鍍膜效果理想并且性價比較高的實驗設(shè)備。高真空蒸發(fā)鍍膜儀要在真空條件下工作，真空對環(huán)境的要求，一般包括真空設(shè)備對所處實驗室（或車間）的溫度、空氣中的微粒等周圍環(huán)境的要求，和對處于真空狀態(tài)或真空中的零件或表面要求兩個方面。這兩個方面是有密切的。周圍環(huán)境的好壞直接影響真空設(shè)備的正常使用；而真空設(shè)備的真空室或裝入里面的零件是否清洗，...